[发明专利]多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置无效
| 申请号： | 02106731.7 | 申请日： | 2002-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1384219A | 公开（公告）日： | 2002-12-11 |
| 发明（设计）人： | 渡部尚;近藤隆彦;山川健司 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨梧,马高平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种多层膜的成膜方法、真空成膜装置及真空成膜装置的控制装置,在多层膜成膜时,用较短的时间完成所有层的成膜。用电子枪加热膜的原料而进行的两层以上的多层膜的成膜,通过向配置于真空腔内的基板蒸发膜的原料的主加热工序R2、R4及预热膜的原料的预热工序R1、R3来进行。在执行由多台电子枪中的某一台形成一层膜的主加热工序R2期间,利用另外的电子枪执行用于形成另一层膜的预热工序。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 膜成膜 方法 真空 装置 及其 控制 | ||
【主权项】：
1、一种多层膜的成膜方法，实质上是在真空腔内，通过利用多个电子枪蒸发多个膜材料，从而在基件上依序层积多层的膜而形成的成膜方法，其中，形成所述多层膜的每一层的膜形成工序包括用所述电子枪蒸发对应各膜的膜材料的主加热工序和在该主加热工序之前预热对应所述各膜的膜材料的预热工序，在互为前后的至少两个所述膜形成工序中，在先进行的膜形成工序的主加热工序结束前，开始后进行的膜形成工序的预热工序。
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