[发明专利]形成导电薄膜的材料,用其制成导电薄膜的方法以及用途无效
| 申请号： | 02108266.9 | 申请日： | 1995-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1379413A | 公开（公告）日： | 2002-11-13 |
| 发明（设计）人： | 松田宏;藤原良治 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14;H01J9/02;G02F1/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在衬底上形成导电薄膜的材料由金属和疏水及亲水成分组成。最好是,该材料包括由通式(R1COO)nM(NR2R3R4)表示的金属有机复合物,其中R1代表烷基,R2、R3和R4的每个代表氢原子、烷基或链烯基团,M代表金属元素,n和m中的每个都代表等于或大于1的整数。该材料可以用于制成电子发射器件的导电膜或制成液晶校正膜。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 导电 薄膜 材料 制成 方法 以及 用途 | ||
【主权项】：
1.一种制造导电薄膜的方法，它包括将用以形成导电薄膜的材料涂敷到衬底上并加热该材料的步骤，其中将所述用以形成导电薄膜的材料涂敷到所述衬底上的处理包括在所述衬底上形成用以形成导电薄膜材料的单分子薄膜的步骤。
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