[发明专利]图案形成体的制造方法以及用于其中的光掩膜无效
| 申请号： | 02108419.X | 申请日： | 2002-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1379284A | 公开（公告）日： | 2002-11-13 |
| 发明（设计）人： | 小林弘典 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的主要目的在于提供一种图案形成体的制造方法,其在制造图案形成体时,可以高精度地形成图案,不需要曝光后的后处理,而且在制造的图案形成体中不含有光催化剂,因而不用担心图案形成体自身劣化。为了解决上述问题,本发明提供一种图案形成体的制造方法,其特征在于,具有图案形成体用基板调制工序和图案形成工序,其中,上述图案形成体用基板调制工序是调制具有特性变化层的图案形成体用基板的工序,该特性变化层的表面特性通过光催化剂的作用发生变化,上述图案形成工序是设置在基材上形成含有光催化剂的光催化剂含有层而成的光催化剂含有层侧基板的光催化剂含有层和上述特性变化层,使它们的间隙为200μm以下,然后由给定的方向照射能量,从而在上述特性变化层表面形成特性发生了变化的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 制造 方法 以及 用于 中的 光掩膜 | ||
【主权项】：
1、一种图案形成体的制造方法，其特征在于，具有图案形成体用基板调制工序和图案形成工序，其中，上述图案形成体用基板调制工序是调制具有特性变化层的图案形成体用基板的工序，该特性变化层的表面特性通过光催化剂的作用发生变化，上述图案形成工序是设置在基材上形成含有光催化剂的光催化剂含有层而成的光催化剂含有层侧基板的光催化剂含有层和上述特性变化层，使它们的间隙为200μm以下，然后由给定的方向照射能量，从而在上述特性变化层表面形成特性发生了变化的图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本印刷株式会社，未经大日本印刷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02108419.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：陶瓷电子部件及其制造方法
- 下一篇：悬垂绝缘子
