[发明专利]无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极无效

专利信息
申请号: 02116687.0 申请日: 2002-04-16
公开(公告)号: CN1397660A 公开(公告)日: 2003-02-19
发明(设计)人: 杨会生;王燕斌;熊小涛 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京科大华谊专利代理事务所 代理人: 刘月娥
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法,其特征在于法兰(28)安装于真空室壁上,在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27),基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜;对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极,铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成,中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5-60mm的间隙,溅射在间隙附近发生;靶材(21,21’)、磁极(22,22’)、磁铁(23,23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路;其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料;靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造。在溅射过程中,等离子体中的离子对靶材表面的轰击,将有大量的热能产生,在靶体内构造出冷却水道(39)。本发明的优点在于克服了铁磁性靶材对磁路的屏蔽效应;增加一致性,易于安装和维护。
搜索关键词: 屏蔽 铁磁性 溅射 阴极
【主权项】:
1、一种磁控溅射阴极,由法兰(28)、密封胶圈(26)、固定螺栓孔(27)、基片(37)组成;其特征在于:法兰(28)安装于真空室壁上,在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27),基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜;对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极,铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成,可采用3-20mm厚的靶材;中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5-60mm的间隙,溅射在间隙附近发生;靶材(21,21’)、磁极(22,22’)、磁铁(23,23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路;其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料;靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造,在靶体内构造出冷却水道(39);
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