[发明专利]旋转涂敷方法与设备,及用于该方法与设备的掩模无效
| 申请号： | 02117437.7 | 申请日： | 2002-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1386588A | 公开（公告）日： | 2002-12-25 |
| 发明（设计）人： | 金子幸生;野口荣作;三船裕喜;宇佐美守;亚田智树 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/30 | 分类号： | B05D1/30 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马江立,吴鹏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 当使用可辐射硬化的液体材料通过旋转涂敷在盘体上实现成膜时,在向安装在用于驱转盘体的旋转器上的盘体的附近供给可辐射硬化的液体材料进行旋转涂敷时,使盘体旋转并通过离心力在盘体上散布液体材料,从而在盘体表面形成液体材料的涂层,在旋转涂敷期间盘体旋转停止之前,向盘体施加具有使可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,从而降低了作为向盘体的涂敷而施加的液体材料的流动性。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 方法 设备 用于 | ||
【主权项】：
1.一种旋转涂敷方法，包括向安装在用于驱转盘体的旋转器上的盘体的中心附近提供可辐射硬化的液体材料，驱转盘体并通过离心力使所述液体材料在盘体上散布，从而在盘体表面形成所述液体材料的涂层膜，其特征在于这样的步骤，即在旋转涂敷期间盘体旋转停止之前，向盘体施加具有使可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射，并降低作为涂层施涂到盘体上的液体材料的流动性。
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