[发明专利]研磨液组合物有效
| 申请号： | 02118591.3 | 申请日： | 2002-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1384170A | 公开（公告）日： | 2002-12-11 |
| 发明（设计）人： | 大岛良晓 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 范征 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 含有磨料、氧化剂、作为研磨促进剂的有机膦酸及水的研磨液组合物,包括用该研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的基板制造方法,用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的方法,包括用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的减少被研磨基板微小擦伤的方法,以及用上述研磨液组合物促进磁盘用基板的研磨的方法。上述研磨液组合物适合研磨记忆硬盘驱动器所用的要求有高表面质量的磁盘用基板。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1.一种研磨液组合物，其特征在于它含有磨料、氧化剂、作为研磨促进剂的有机膦酸和水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社，未经花王株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02118591.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于添加条件访问系统的方法和系统
- 下一篇：带有离轴照明的波前传感器
