[发明专利]相移掩膜的制作方法

摘要

一种相移掩膜的制作方法，是在形成图案化光阻层之后，在图案化光阻层的侧壁上形成薄的掩膜层覆盖铬层，然后再进行相位移层的制作，以图案化光阻层与掩膜层为掩膜，在透明基板上形成相位移开口。在掩膜层底下的铬层可精确地自行对准相位移层，避免多次光刻造成的对准误差，增进掩膜图案的精确度，而且可以减少一道光刻步骤，降低掩膜的制作成本。

主权项

1.一种相移掩膜的制作方法，至少包括下列步骤：在一透明基板上依序形成一不透光层与一图案化光阻层；形成一掩膜层覆盖该不透光层与该图案化光阻层；去除部分该掩膜层，剩下在该图案化光阻层侧壁上的部分该掩膜层，并且暴露出底下的部分该不透光层；去除该不透光层的暴露部分与底下的部分该透明基板，形成一相位移开口；以及去除该图案化光阻层与该图案化光阻层底下的该不透光层。