[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 02121802.1 申请日: 2002-03-21
公开(公告)号: CN1383215A 公开(公告)日: 2002-12-04
发明(设计)人: 须田康夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L31/00 分类号: H01L31/00;H01L27/14;H01L33/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一半导体器件,该器件通过对粘合在隔离体上的第一衬底和第二衬底进行切割而形成,其中隔离体位于切割后的第一衬底的一端;第二衬底是形成有一个或多个光接收元件的半导体晶片;第一衬底具有将光线会聚在上述光接收元件上的光学元件或光学元件组。一制造这一半导体器件的方法。一半导体器件制造方法,包括检测半导体衬底的翘曲一步;在去除翘曲的条件下将半导体衬底保持在基底上一步;将相对衬底粘合到半导体衬底上一步;对相对衬底进行切割的一步,其中,粘合到半导体衬底上的相对衬底用相应于半导体衬底的翘曲的尺寸或用与相对衬底相邻的间隔而设定。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一半导体器件,该器件通过切割粘合在隔离体上的第一衬底和第二衬底而形成,其中:隔离体位于切割后的第一衬底的一端;第二衬底是和一个或多个光接收元件形成的半导体晶片;第一衬底具有将光线会聚在上述光接收元件上的一光学元件或一光学元件组。
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