[发明专利]显像装置的环境控制装置及其环境控制方法无效
| 申请号： | 02121827.7 | 申请日： | 2002-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN1389903A | 公开（公告）日： | 2003-01-08 |
| 发明（设计）人： | 片冈雅雄 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 显像装置的环境控制装置在晶片处理室中,对曝光了的抗蚀剂膜用显像液进行显像。空气供给装置将从外部取来的空气供给晶片处理室。在空气供给装置中备有从由外部取来的空气中除去化学污染物质的化学污染物质除去装置。 | ||
| 搜索关键词： | 显像 装置 环境 控制 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种显像装置的环境控制装置，是在晶片处理室中对曝光了的抗蚀剂膜使用显像液进行显像的显像装置的环境控制装置，其备有把从外部取来的空气供给所述晶片处理室的空气供给装置，以及在所述空气供给装置中设置的从所述空气中除去化学污染物质的化学污染物质除去装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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