[发明专利]铁－钴合金纳米线阵列高密度垂直磁记录材料及制备无效
| 申请号： | 02138034.1 | 申请日： | 2002-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1397932A | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 唐少龙;陈薇;都有为 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G11B5/62 | 分类号： | G11B5/62;C25D11/02 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 | 代理人： | 陈建和 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 铁－钴合金纳米线阵列高密度垂直磁记录材料，在电化学阳极氧化氧化铝纳米孔洞模板，设有电化学沉积的铁钴合金纳米线阵列，铁－钴合金组成的合金CoxFe1－x(10≤x≤60)。制备方法是先以电化学沉积方法将铁钴合金纳米线阵列沉积在氧化铝纳米孔洞模板内，然后在300－600℃条件下退火，得到高性能的铁钴合金纳米线阵列磁记录材料。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 纳米 阵列 高密度 垂直 记录 材料 制备 | ||
【主权项】：
1、铁-钴合金纳米线阵列高密度垂直磁记录材料，其特征是在电化学阳极氧化氧化铝纳米孔洞模板，设有电化学沉积的铁钴合金纳米线阵列，铁-钴合金组成的合金CoxFe1-x(10≤x≤60)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京大学，未经南京大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02138034.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种具有高功率密度的质子交换膜燃料电池
- 下一篇：一种复合井盖及其制备方法
