[发明专利]基片处理装置、液处理装置和液处理方法无效

专利信息
申请号: 02141002.X 申请日: 2002-06-19
公开(公告)号: CN1392454A 公开(公告)日: 2003-01-22
发明(设计)人: 立山清久;元田公男;佐田彻也;宫崎一仁;筱木武虎 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;G02F1/1333;H01L21/027
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张天安
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时,停止旋转传输滚轴(138),使基片(G)静止。之后,操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。此时,(基板)182和起模顶杆(184)也上升,起模顶杆(184)从下突起,向传输路径(108)的上方抬起基片(G)。接着,以传输路径(108)的宽度方向上延伸的轴(196)为中心向后仅旋转基板(182)规定角度。此时,起模顶杆(192)、止动部件(194)、基片(G)也在传输路径(108)上向后方仅倾斜相同角度。基片(G)止动于止动部件(194)上,基片(G)上的液体(Q)由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落,落到基片的外部。从基片(G)落下的液体(Q)收集在盘(130)中。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
1.一种基片处理装置,具有:传输路径,在水平方向上铺设基本水平地载送被处理基片用的传输体来构成;传输驱动部件,驱动所述传输体,以在所述传输路径上传输所述基片;处理液提供部件,包含向所述传输路径上的所述基片的被处理面提供规定处理液用的一个或多个喷嘴;和基片倾斜部件,在所述传输路径上,向所述传输路径的前方或后方倾斜所述基片,以便液体因重力而从所述基片上落下。
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