[发明专利]生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法

摘要

公开了一种生产正性光敏抗蚀剂组合物的方法及用这种光敏抗蚀剂组合物涂覆适合的基片在基片上产生光敏抗蚀剂图象生产半导体元件的方法。

主权项

1.一种制备正性光敏抗蚀剂组合物的方法，主要由以下步骤组成：A)提供10至40％重不溶于水、溶于碱水的成膜酚醛清漆树脂在极性有机溶剂中的溶液；B)通过规格小于1微米的过滤器过滤所述酚醛清漆树脂溶液；C)使所述酚醛清漆树脂溶液通过阴离子交换树脂；D)使所述酚醛清漆树脂溶液通过阳离子交换树脂；E)调节酚醛清漆树脂溶液的温度到20℃至35℃；F)加入10％至60％重的去离子水；G)搅拌所述酚醛清漆树脂溶液/水混合物至少30分钟；H)让混合物放置至少5分钟；I)除去至少55％重的水和极性有机溶剂；J)加入40至65％重的适合的光敏抗蚀剂溶剂；K)在真空下，在90℃至130℃的温度下，和在50mm至120mm的压力下，蒸出基本上所有残余的水和极性有机溶剂；L)冷却剩余的酚醛清漆树脂溶液至25℃至45℃；M)通过规格小于1微米的过滤器过滤所述酚醛清漆树脂溶液；然后提供以下混合物：1)足以使所述光敏抗蚀剂组合物均匀地光敏化的量的光敏组分；2)从上述步骤M)得到的不溶于水、溶于碱水的酚醛清漆树脂醛；和3)适合的光敏抗蚀剂溶剂。