[发明专利]光刻装置和器件的制造方法有效
| 申请号： | 02145590.2 | 申请日： | 2002-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1432875A | 公开（公告）日： | 2003-07-30 |
| 发明（设计）人： | K·D·范德马斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过在基底上同时投射两个或者多个带有图案的投射光束，其中每个光束具有不同的图案和不同的强度，从而形成灰度级。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，该装置包括：用于提供第一辐射投射光束的辐射系统；根据第一理想图案用于对该第一投射光束进行构图的第一程控构图部件；用于保持基底的基底台；用于将第一带有图案的投射光束投射到基底的靶部上的投射系统，其特征在于所述装置另外包括第二程控构图部件，用于根据第二理想图案对辐射系统提供的第二投射光束进行构图；所述投射系统将第二带有图案的投射光束投射在所述基底的靶部上；和第一和第二带有图案的投射光束的强度不同。
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