[发明专利]光投射处理设备和用它制造器件的方法及制成的器件，污染物的清洁设备和清洁方法

摘要

用波长短于250nm的UV或EUV射线，在选自水，氧化氮和含氧的碳氢化合物的含氧物存在的情况下，在包含光学元件的设备中辐射空间，清洗光投射处理设备中用的光学元件。通常用洗涤气体洗涤空间，洗涤气体除有常用的洗涤气体组分外，还含有少量含氧物。该方法也可以用在抽真空的空间中，给空间引入低压含氧物。该方法的优点在于避免使用诸如臭氧的不稳定的材料。

主权项

1，一种光投射处理设备，包括：辐射系统，用于提供波长为250nm或以下的电磁射线的投射束；支撑构件，用于支撑构图装置，该构图装置用于对投射束按规定图形构图；衬底台，用于固定衬底；投射系统，用于把已构图的射线束投射到衬底的目标部分上；气体供给源，给所述设备中的空间供给洗涤气体，所述空间内设有光学元件，其中，所述洗涤气体包含选自水，氧化氮和含氧的碳氢化合物的含氧物。