[发明专利]恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置无效
申请号: | 02153269.9 | 申请日: | 2002-11-26 |
公开(公告)号: | CN1503063A | 公开(公告)日: | 2004-06-09 |
发明(设计)人: | 赵立新;胡松;王肇志;陈兴俊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G02B26/10;H01L21/027 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人: | 刘秀娟 |
地址: | 610209*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 恒定光源步进扫描实现大面积光刻的方法,利用光源步进扫描,扫描单元为高均匀度、恒功率小光源,沿X方向扫描,沿Y方向步进拼接来实现,扫描单元的形状为一对锐角小于60度的平行四边形。恒定光源步进扫描实现大面积光刻的装置由电机、传动机构、扫描头、导轨、机架构成,电机轴与传动机构中的光杆连接,扫描头架在导轨上,扫描头采用闭环开关电源控制光源,整个装置固定在机架上。采用光源步进扫描,扫描的过程中不会对掩模和样片的相对位置产生影响;扫描装置采用闭环开关电源控制光源,保证功率恒定。本发明的优点在于:所得到的大面积光刻具有高的均匀度和分辨力,从而克服大面积光源的不足,且装置结构简单、造价低。 | ||
搜索关键词: | 恒定 光源 步进 扫描 实现 大面积 光刻 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1、恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法,其特征在于:利用光源步进扫描,扫描单元为高均匀度、恒功率小光源,沿X方向扫描,沿Y方向步进拼接来实现。
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