[发明专利]应用于光学补偿膜曝光的制程及其装置

摘要

一种应用于光学补偿膜曝光的制程包括：提供第一卷状胶膜，以形成基板；涂布光敏感性高分子于基板上；提供一紫外线光源；提供一聚光透镜，聚集紫外线以形成平行光束；提供一偏极光发生器，具有设置于聚光透镜与第一卷状胶膜之间的数层石英片，以接收平行光束，且同时获得反射紫外偏极光及穿透紫外偏极光，利用该后者照射第一卷状胶膜而极化第一光敏感性高分子层；涂布一液晶高分子，经加热及紫外光聚合后获得具有X方向光轴的光学异方性的胶膜；涂布光敏感性高分子以获第二光敏感层，利用反射紫外偏极光照射而极化第二光敏感层；涂布液晶高分子，经加热程序而获得一具有Y方向光轴的光学异方性的胶膜，以合成一具有双光轴特性的卷状光学补偿膜。

主权项

1.一种应用于光学补偿膜曝光的制程，用于制作一光学补偿膜，以供一液晶显示器呈现广大视角，其特征在于，包括以下步骤：提供一第一卷状胶膜，用以形成该光学补偿膜的一基板；涂布光敏感性高分子于该基板上，以获致一第一光敏感性高分子层；提供一紫外线光源，以发出紫外线；提供一聚光透镜，用以聚集该紫外线成为一平行光束，而该平行光束为一Z轴方向前进的电磁波，且该沿Z轴方向前进的电磁波具有一X轴方向的平行电场分量及Y轴方向的垂直电场分量，该X轴方向的平行电场分量及Y轴方向的垂直电场分量均振动于一XY平面上；提供一偏极光发生器，其具有数层石英片，被设置于该聚光透镜与该第一卷状胶膜之间，是用以接收该平行光束，且同时反射及穿透出该垂直及平行电场分量，以获得一反射紫外偏极光及穿透紫外偏极光；利用该穿透紫外偏极光以照射该第一卷状胶膜而极化该第一光敏感性高分子层，即获致一X轴方向光聚合的平行电场配向层；涂布一液晶高分子于该第一光敏感层上，经一加热程序及紫外光聚合后，即获致一具X方向光轴的光学异方性的胶膜；涂布该光敏感性高分子于该具X方向光轴的光学异方性的胶膜上，以获致一第二光敏感层；利用该偏极光发生器所反射的该反射紫外偏极光，以照射而极化该第二光敏感层，即获致一Y轴方向光聚合的垂直电场配向层；以及涂布该液晶高分子于该第二光敏感层上，经该加热程序及紫外光聚合后，即获致一具有Y方向光轴的光学异方性的胶膜，以与该具有X方向光轴的光学异方性的胶膜合成一具有双光轴特性的卷状光学补偿膜。