[发明专利]一种溅射纳米多层膜各膜层模板的套准装置及方法无效

专利信息
申请号: 02158560.1 申请日: 2002-12-26
公开(公告)号: CN1487114A 公开(公告)日: 2004-04-07
发明(设计)人: 由臣;赵燕平;陈民芳;孙永昌;刘技文;王志奇 申请(专利权)人: 天津理工学院
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/34
代理公司: 天津德赛律师事务所 代理人: 卢枫
地址: 300191天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种溅射纳米多层膜各膜层模板的套准装置及套准方法,其装置是由试样架、弹簧夹、模板、基片、套准框、基片与套准框的固定件所构成;套准方法是将模板置于套准框内,通过模板与套准框之间的间隙量保证套准精度。本发明的优越性在于避免了用定位图形对准产生的模板与已溅射纳米膜层的擦伤,避免了用定位图形膜与基片反差小、周围边界不清导致的定位不准,避免了将模板和基片夹持在试样架上的操作过程中产生的模板与基片的相对滑动和擦伤,减少了原有技术每块模板都要加工定位图形的工作量,降低了模板加工成本和难度,提高了制备纳米多层膜的完好率及性能,为纳米多层膜的研究及应用提供了一个较为可靠的制备方法。
搜索关键词: 一种 溅射 纳米 多层 膜各膜层 模板 装置 方法
【主权项】:
1、一种溅射纳米多层膜各膜层模板的套准装置,其特征在于它是由试样架、弹簧夹、模板、基片、套准框、基片与套准框的固定件所构成,所说的套准框置于试样架上且依弹簧夹相固定,套准框是一沿模板坯料四周切下一定宽度的边框,切下的带有溅射图形的部分即为模板,套准框与基片置于固定件内相固定,带有溅射图形的模板置于套准框内,带有溅射图形的模板与套准框间有间隙量。
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