[发明专利]一氧化硅蒸镀材料及其制造方法有效
| 申请号： | 02816621.3 | 申请日： | 2002-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1547622A | 公开（公告）日： | 2004-11-17 |
| 发明（设计）人： | 西冈和雄 | 申请（专利权）人： | 住友钛株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C01B33/113 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一氧化硅蒸镀膜形成时的飞溅现象的产生显著减少的一氧化硅蒸镀材料及其制造方法，在将硅粉末与二氧化硅粉末的混合物在真空下的原料室内加热、反应，以产生一氧化硅气体，一氧化硅在设置在原料室上部的沉积室中的沉积基材上沉积的方法中，通过使用圆周壁相对于垂线倾斜1度～45度并且上端内径比下端内径小的圆筒体作为沉积基材，并且在沉积室的压力为7Pa～40Pa的真空气氛下制造，可以制造磨耗试验的重量减少率(磨耗值)为1.0％或更低，一氧化硅蒸镀膜形成时的飞溅现象的产生少的一氧化硅蒸镀材料。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 硅蒸镀 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由真空浓缩法制造的一氧化硅蒸镀材料，其磨耗试验重量减少率(磨耗值)为1.0％或更低。
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