[发明专利]光刻用透射UV的混合氟化物晶体无效
| 申请号： | 02817909.9 | 申请日： | 2002-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1555499A | 公开（公告）日： | 2004-12-15 |
| 发明（设计）人： | D·C·埃兰;N·F·博雷利;C·M·史密斯;R·W·斯派罗 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B11/00;G03F1/00;G03C5/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了波长在200纳米之下的UV平版印刷方法，它使用了混合的氟化钙锶晶体。本发明包括提供小于200纳米的光源以制得＜200纳米的光线，提供许多混合氟化钙锶立方晶体光学元件，所述氟化物晶体包括具有不同光学极化度的钙锶阳离子的组合，以得到各向同性极化度，所述各向同性极化度能够使在200纳米之下的氟化物晶体空间色散最小，能够通过所述氟化物立方晶体光学元件透射＜200纳米的光线，能够使用所述光线形成平版印刷图形，还原所述平版印刷图形以及将所述具有氟化物晶体光学元件的平版印刷图形投影在UV光敏平版印刷媒介上，以形成印制的平版印刷图形。本发明包括制造混合氟化物晶体、其光学元件坯料以及光学平版印刷元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 透射 uv 混合 氟化物 晶体 | ||
【主权项】：
1.一种UV平版印刷方法，它包括：提供波长小于200纳米的光源，以得到＜200纳米的光线，提供许多包括混合氟化钙锶CaxSr(1-x)F2晶体的混合氟化物晶体光学元件，所述混合氟化钙锶CaxSr(1-x)F2晶体具有48毫米光程长度以及157纳米的外透射率≥75％，以及具有60％外透射率(48毫米光程长度)的截止波长≤137纳米，通过所述氟化钙锶CaxSr(1-x)F2晶体光学元件透过所述＜200纳米的光，使用所述光形成平版印刷图形，还原所述平版印刷图形，并使用所述氟化物立方晶体光学元件将所述平版印刷图形投影到UV光敏平版印刷媒介上形成印制的平版印刷图形。
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