[发明专利]使用冷氢焰清洁玻璃基片的装置和方法无效
| 申请号： | 02822951.7 | 申请日： | 2002-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN1589183A | 公开（公告）日： | 2005-03-02 |
| 发明（设计）人： | 大卫·T·梁;杜蒂·M·林;陈秀男 | 申请（专利权）人： | 新加坡科技研究局 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;C03C23/00;C03B32/00;G02F1/1333;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 罗正云;宋志强 |
| 地址： | 新*** | 国省代码： | 新加坡;SG |
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| 摘要： | 通过在一段预定的持续时间内将诸如玻璃基片的温度敏感基片的表面暴露于氢表面混合扩散火焰去除表面的杂质。预定的持续时间不足以充分加热表面，从而避免损坏该温度敏感基片。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 冷氢焰 清洁 玻璃 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种去除温度敏感基片的表面杂质的方法，该方法包括以下步骤：产生氢表面混合扩散火焰；和在一段预定的持续时间内将所述氢表面混合扩散火焰暴露于所述表面；所述预定的持续时间不足以充分加热所述表面，从而避免损坏所述温度敏感基片。
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