[发明专利]确定层厚度的方法和系统无效
| 申请号： | 02823481.2 | 申请日： | 2002-10-03 |
| 公开（公告）号： | CN1759297A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 拉里·弗利萨;卡尔·莫兹 | 申请（专利权）人： | 自由度半导体公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种确定至少一个半导体晶片(12)上的至少一层的厚度的方法，该方法包括以下步骤：在至少一层(10)的表面(16)上投射第一激光脉冲(14)，从而由于对至少一层(10)的表面的加热而产生声波；在声波的传播时间之后，在至少一层(10)的表面(16)上投射一组第二激光脉冲(18)；测量第二激光脉冲(18)的被反射激光脉冲(20)，从而检测至少一层(10)的表面(16)的反射特性改变时间；和通过分析反射特性改变的时间确定至少一层(10)的厚度。本发明还涉及一种确定半导体晶片(12)上层(10)的厚度的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 厚度 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种确定至少一个半导体晶片上的至少一层的厚度的方法，该方法包括以下步骤：在所述至少一层的表面上投射第一激光脉冲，从而由于对所述至少一层的表面的加热而产生声波，在声波的传播时间之后，在所述至少一层的表面上投射一组第二激光脉冲，测量第二激光脉冲的被反射激光脉冲，从而检测所述至少一层的表面反射特性改变时间，和通过分析反射特性改变的时间确定所述至少一层的厚度。
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