[发明专利]诸如锗硅碳化物波导的波导及其制作方法无效
| 申请号： | 02824729.9 | 申请日： | 2002-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN1602371A | 公开（公告）日： | 2005-03-30 |
| 发明（设计）人： | 阿尔凯帝·V·萨摩罗伏;迪恩·E·贝尔林 | 申请（专利权）人： | 美商·应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B25/14;C30B25/16;C30B29/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一波导及其制作方法，该方法至少包含在基板上形成第一渐进层，其中第一渐进层至少包含第一和第二光学材料与晶格常数调整材料，其中第二光学材料的浓度随第一渐进层的高度增加，而晶格常数调整材料的浓度与第二光学材料成比例变化；以及形成第二渐进层，该第二渐进层至少包含第一和第二光学材料与晶格常数调整材料，其中第二光学材料的浓度随第二渐进层的高度减少，而晶格常数调整材料的浓度与第二光学材料成比例变化。 | ||
| 搜索关键词： | 诸如 碳化物 波导 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种形成波导结构的方法，其至少包含以下步骤：在基板上形成第一渐进层，第一渐进层至少包含硅、锗和晶格常数调整材料，其中锗和晶格常数调整材料的浓度随第一渐进层的高度而增加；以及在第一渐进层上形成第二渐进层，第二渐进层至少包含硅、锗和晶格常数调整材料，其中锗和晶格常数调整材料的浓度随第一渐进层的高度而减少。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美商·应用材料股份有限公司，未经美商·应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02824729.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于自动变速器的控制设备
- 下一篇：新纤维素材料
