[发明专利]一种活性气体发生方法及其装置无效
| 申请号： | 03102115.8 | 申请日： | 2003-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN1522102A | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 江南;钱生法 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | H05H1/42 | 分类号： | H05H1/42;C01B13/11;A61L2/14 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王凤华 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种活性气体发生方法及其装置，采用介质阻挡放电方式产生放电；介质阻挡放电的放电区周边设置一送气通道，送气通道的侧壁上开有槽状或者多孔送气口，送气口的送气方向朝向放电区；在送气通道内注入工作气体，工作气体流经放电区产生等离子体，并产生活性中性粒子；包含活性中性粒子的活性气体随气流流出所述放电区，最后到达被处理工件表面。本装置包括交变电源、与交变电源的输出端电连接的上下电极以及绝缘介质片；还包括置于放电区周边的送气通道。本装置可以产生均匀的活性气体，被处理工件处于装置外部，其表面可以具有三维结构，而且不被放电损伤。本方法及其装置可用于产生材料制备或各种材料表面处理所需要的活性气体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 活性 气体 发生 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1、一种活性气体发生方法，其特征在于，采用介质阻挡放电方式产生放电；介质阻挡放电的放电区周边设置一送气通道，所述送气通道的侧壁上开有槽状或者多孔送气口，所述送气口的送气方向朝向所述放电区；在送气通道内注入工作气体，所述工作气体流经放电区产生等离子体，并产生活性中性粒子；包含活性中性粒子的活性气体随气流流出所述放电区，最后到达被处理工件表面。
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