[发明专利]掩模、附光反射膜基片、光反射膜制法与显示装置及电器有效
| 申请号： | 03110403.7 | 申请日： | 2003-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1450393A | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | 大竹俊裕;松尾睦;露木正 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/08;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯,叶恺东 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用以制造干涉条纹产生少的光反射膜的掩模、用该掩模形成的附光反射膜的基片、光反射膜的制造方法、设有干涉条纹产生少的光反射膜的光学显示装置、以及设有干涉条纹产生少的光反射膜的电器。其解决手段是采用透光部分或不透光部分由随机函数分配的、在平面上随机配置的掩模，制作在基体材料上形成的多个凸部或凹部在平面方向上随机配置的光反射膜。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 反射 膜基片 制法 显示装置 电器 | ||
【主权项】：
1.一种用以制造附光反射膜的基片的掩模，其特征在于：透光部分或不透光部分的位置由随机函数分配，所述透光部分或不透光部分在平面方向上随机配置。
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