[发明专利]一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法无效
| 申请号： | 03116501.X | 申请日： | 2003-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1448737A | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王文辉;唐衍哲;杨艺榕;吴亚明;王跃林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G02B6/125 | 分类号： | G02B6/125;H04B10/12 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的；具体步骤是：(1)在绝缘层上的硅上生长一层可用于硅的各向异性腐蚀的掩模；(2)在掩模上光刻出制作镜子的窗口；(3)利用步骤(2)中的光刻胶或已经光刻出镜子窗口的掩模作掩模进行硅的干法刻蚀，刻蚀出垂直、相对光滑的镜面；(4)在各向异性腐蚀液中腐蚀，而制成垂直、光滑的镜面。本发明优点在于镜面光滑，可在更小区域内制作面积是足够大镜面；无用区域小以及工艺简单，仅增加一步干法刻蚀工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 垂直 光滑 反射 型微镜 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种垂直光滑的反射微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的。
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