[发明专利]铟锡氧化物靶材的制备方法无效
| 申请号： | 03118371.9 | 申请日： | 2003-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1453392A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 龚鸣明;刘朗明;肖卫军;彭小苏 | 申请（专利权）人： | 株洲冶炼集团有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;C04B35/457;C04B35/622 |
| 代理公司： | 株洲市长江专利事务所 | 代理人： | 刘国鼎 |
| 地址： | 412004*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种铟锡氧化物靶材的制备方法，包括铟锡混合盐溶液的制备、溶液的均相共沉淀、沉淀物的煅烧、氧化物脱氧、冷等静压、热等静压等步骤，其特征在于：所述的均相共沉淀的添加剂为柠檬酸或酒石酸；煅烧是将沉淀物在温度400－1200℃、氧气浓度22－35％的条件下，于隧道窑中进行；脱氧是在温度300－600℃，氢气流量1－3立方米/小时，反应时间15－60分钟，脱氧率控制6－20％的管式炉中进行；冷等静压二次成型的压力和保压时间分别是80－120MPa、1－5分钟和150－200MPa、5－10分钟；热等静压是将坯件置于具有隔离材料的包套中，在热等静压机中进行烧结。本发明主要用于液晶显示。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种铟锡氧化物靶材的制备方法，包括以下步骤：A、铟锡混合盐溶液的制备；B、溶液的均相共沉淀；C、沉淀物的煅烧；D、铟锡氧化物的预还原脱氧；E、铟锡氧化物冷等静压二次成型；F、铟锡氧化物坯件的热等静压烧结；G、靶材的脱模；H、靶材的切割成产品；其特征在于：(1)B中所述的均相共沉淀的添加剂为柠檬酸或酒石酸；(2)C中所述的煅烧是将沉淀物在温度400-1200℃，氧气浓度22-35％的条件下，于隧道窑中进行的煅烧；(3)D中所述的预还原脱氧，是在温度300-600℃，氢气流量1-3立方米/小时，反应时间15-60分钟，脱氧率控制为6-20％的管式炉中进行的；(4)E中所述的冷等静压二次成型，是将铟锡氧化物粉末，在压力80-120Mpa，保压时间1-5分钟的条件下，于冷等静压机中预压成粗坯，再将粗坯破碎成粒并在压力150-200Mpa、保压时间5-10分钟的条件下，于冷等静压机中压制成坯件；(5)F中所述的的铟锡氧化物的热等静压烧结，是将坯件置于具有隔离材料的包套中，于热等静压机中进行烧结。
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