[发明专利]低密度低膨胀系数高热导率硅铝合金封装材料及制备方法有效

专利信息
申请号: 03119606.3 申请日: 2003-03-14
公开(公告)号: CN1531072A 公开(公告)日: 2004-09-22
发明(设计)人: 张永安;熊柏青;张济山;石力开;刘红伟;朱宝宏 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;C22C21/00;C22C1/00;B22F3/115
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 程凤儒
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种低密度低热膨胀系数高热导率的Si-Al合金封装材料及其制备方法,按重量百分比计,该合金成分为Si 50~70wt%,Al为余量。按合金成分配料,将原料熔化,浇铸成合金预制锭。在1600~1700℃将合金预制锭熔化,以惰性气体为雾化气体,进行快速凝固喷射成形制备,雾化压力为0.5~1.0MPa。本发明的新型SiAl合金材料的合金成分均匀、显微组织均匀、组织细小。该材料经热等静压或热压致密化处理可实现完全致密化,这种材料可用普通刀具进行机加工切削成型,可进行表面涂装、钎焊。该材料可应用于航空航天、电子、计算机、通信等领域的微电子线路和微波线路的封装材料。
搜索关键词: 密度 膨胀系数 高热 导率硅 铝合金 封装 材料 制备 方法
【主权项】:
1、一种低密度低热膨胀系数高热导率SiAl合金封装材料,其特征在于:按重量百分比计,该合金成分为Si:50~70wt%,Al为余量。
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