[发明专利]用于微光刻法的先进的照明系统有效
| 申请号： | 03142709.X | 申请日： | 2003-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN1474235A | 公开（公告）日： | 2004-02-11 |
| 发明（设计）人： | 马克·奥斯考特斯凯;莱福·雷日科夫;斯高特·考斯坦;詹姆斯·察考印尼斯;沃特·奥格斯特茵 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/42;G02B3/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于微光刻的系统，包括：照明光源；照明光学系统；和投影光学系统，该照明光学系统包括，按从物镜侧开始的顺序，(a)从照明光源接受照明的第一衍射光学单元，(b)变焦透镜，(c)第二衍射光学单元，(d)聚光器透镜，(e)中继透镜，(f)掩模版，该投影光学系统用于把掩模版成像在基片上，其中，用于微光刻的本系统，提供可变焦的数值孔径。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微光 先进 照明 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于微光刻的系统，包括：照明光源；照明光学系统，包含，按从物镜侧开始的顺序：(a)从所述照明光源接受照明的第一衍射光学单元；(b)变焦透镜；(c)第二衍射光学单元；(d)聚光器透镜；(e)中继透镜；(f)掩模版；和把所述掩模版成像在基片上的投影光学系统，其中，所述用于微光刻的系统，能提供可变焦的数值孔径。
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