[发明专利]生产装置及用此生产装置生产发光器件的方法有效
| 申请号： | 03147197.8 | 申请日： | 2003-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1486793A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;浜田崇;濑尾哲史 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | B05C5/00 | 分类号： | B05C5/00;B05D1/02;B05D3/00;B41J2/01;H01L31/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种占地面积小的生产装置及用此装置生产发光器件的方法。生产发光器件的装置包含装载工作室、形成发光材料薄膜的工作室、形成导电材料薄膜的工作室、形成绝缘材料薄膜的工作室、以及卸载工作室，其中，形成发光材料薄膜的工作室是用液体喷射方法形成发光材料薄膜的工作室，形成导电材料薄膜的工作室是用溅射方法形成导电材料薄膜的工作室，而形成绝缘材料薄膜的工作室是用溅射方法来形成绝缘材料薄膜的工作室，且其中，在所有装载工作室、形成发光材料薄膜的工作室、形成导电材料薄膜的工作室、形成绝缘材料薄膜的工作室、以及卸载工作室中，待要处理的衬底被支持成待要处理的衬底的成膜表面与重力方向所对着的角度在0－30度内。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 装置 发光 器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，它包含：装载工作室；用液体喷射方法来形成发光膜的第一工作室；用溅射方法来形成导电膜的第二工作室；用溅射方法来形成绝缘膜的第三工作室；以及卸载工作室，其中，在所有装载工作室、第一工作室到第三工作室、以及卸载工作室中，衬底被支持成待要处理的衬底表面与重力方向所对的角度在0-30度内。
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