[发明专利]真空电弧沉积设备有效

专利信息
申请号: 03178688.X 申请日: 2003-07-22
公开(公告)号: CN1495282A 公开(公告)日: 2004-05-12
发明(设计)人: 入泽一彦;簗岛英夫;瀬户山诚 申请(专利权)人: 日新电机株式会社;日本ITF株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种真空电弧沉积设备,组成该沉积设备的电弧蒸发源具有多个阴极、一触发电极、一触发驱动单元、一挡板、以及一挡板驱动单元。触发驱动单元可变换触发电极的位置,从而将其定位在某个所需阴极的前方,并使触发电极在该已变换位置上与所需阴极接触/脱离。挡板遮挡着除所需阴极之外其它所有阴极的前方。挡板驱动单元使挡板移动,从而可变换未被挡板遮挡着的阴极。另外,该真空电弧沉积设备还具有一变换控制单元,用于对挡板驱动单元和触发驱动单元进行控制,由此可变换未被挡板遮挡着的阴极,并将触发电极定位在未被挡板遮挡着的阴极之前。
搜索关键词: 真空 电弧 沉积 设备
【主权项】:
1、一种真空电弧沉积设备,其包括:一真空腔;一电弧蒸发源,其利用真空电弧放电从阴极蒸发出阴极材料,所述电弧蒸发源包括:一用导体制成的阴极保持器,用于对所述阴极进行保持;多个阴极,它们附连到所述阴极保持器上;一用于引弧的触发电极;一触发驱动单元,用于执行一种对所述触发电极的位置进行变换的操作,由此可将所述触发电极定位在所述多个阴极中的某一所需阴极前方,并可执行这样一种操作:在所述的变换位置上,将所述触发电极移近或远离所述的所需阴极;一挡板,其能遮挡着除所述所需阴极之外其它所有阴极的前部;以及一挡板驱动单元,用于执行一种操作来使所述挡板移动,由此来变换未被所述挡板遮挡住的阴极;一电弧电源,其连接在所述电弧蒸发源的所述阴极与一与所述阴极对应的阳极之间,且所述阴极位于该电源的负极一侧;以及一变换控制单元,用于执行变换控制,用以对所述挡板驱动单元和所述触发驱动单元实施控制,从而可变换一个未被所述挡板遮挡住的阴极,同时还将所述触发电极定位在未被所述挡板遮挡的所述阴极之前。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新电机株式会社;日本ITF株式会社,未经日新电机株式会社;日本ITF株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03178688.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top