[发明专利]不饱和单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物、和形成图案的方法无效
申请号: | 03801743.1 | 申请日: | 2003-06-27 |
公开(公告)号: | CN1692130A | 公开(公告)日: | 2005-11-02 |
发明(设计)人: | 前田胜美;中野嘉一郎 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社 |
主分类号: | C08F20/28 | 分类号: | C08F20/28;C08F32/08;C08G61/12;C07D307/93;G03F7/039 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 樊卫民;杨青 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供化学增幅抗蚀剂组合物,该组合物具有对波长不超过220纳米的光的高透明性,优异的抗蚀性,和优异的对衬底的粘附力。通过使用至少一种如下的重复结构单元制备化学增幅抗蚀剂组合物:由通式(III)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元、由通式(IV)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元、和由通式(V)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元。 | ||
搜索关键词: | 不饱和 单体 聚合物 化学 增幅 抗蚀剂 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种由通式(I)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的(甲基)丙烯酸酯衍生物:其中R1表示氢原子或甲基,R2和R3各自表示氢原子或碳数为1~6的烷基,或R2和R3互相连接,并且各自表示与和R2和R3结合的碳原子一起形成环的、碳数为1~6的亚烷基,X表示-CH2-或-O-,Z表示氢原子或甲基,和n表示0或1,其中当n表示0和X表示-CH2-时,R2和R3各自表示碳数为1~6的烷基。
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