[发明专利]二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件无效

专利信息
申请号: 03804816.7 申请日: 2003-02-26
公开(公告)号: CN1639283A 公开(公告)日: 2005-07-13
发明(设计)人: 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: C09D183/02 分类号: C09D183/02;C09D183/04;C09D5/25
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物,含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂,作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂,作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物,具有如下固化性能,在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物,在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。
搜索关键词: 二氧化硅 形成 组合 及其 制造 方法 以及 电子 部件
【主权项】:
1.一种含有硅氧烷树脂,具有流动性,而且在基体上涂布成膜状态下加热固化后形成二氧化硅类涂膜的二氧化硅类涂膜形成用组合物,其特征在于,具有如下固化特性,即在150℃下加热3分钟时得到的上述二氧化硅类涂膜的应力大于等于10MPa,而且通过最终固化得到的二氧化硅类涂膜的比电容率小于3.0。
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