[发明专利]清洁光学表面的方法和装置无效
申请号: | 03805657.7 | 申请日: | 2003-03-11 |
公开(公告)号: | CN1638883A | 公开(公告)日: | 2005-07-13 |
发明(设计)人: | J·吕德克;C·查策克;A·帕茨迪斯;J·乌尔曼;A·米尔普福尔德特;M·蒂尔;S·维斯纳 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘维升;马崇德 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种利用UV射线在清洁气体中对射束导向透镜的表面进行去污的方法和装置。按照本发明,所用的UV射线的波长在强吸收氧的区域,清洁气体中的氧浓度低于空气中的氧浓度。 | ||
搜索关键词: | 清洁 光学 表面 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种对射束导向镜片的表面,特别是微光刻投影曝光仪的光学部件的表面进行去污的方法,其中-在一种清洁气体中用UV射线对待清洁的表面进行辐照,其特征在于:-作为UV清洁射线,选择其波长位于强吸收氧的区域,作为清洁气体,选择其氧浓度小于空气中的氧浓度。
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