[发明专利]用于集成电路量度的形态精确化

摘要

本发明包括从一个测得信号来确定在集成电路内一个结构的形态的方法和系统，用一个量度装置测量来自该结构的信号，在一个形态数据空间中选择测量信号的最佳符合，该数据空间有具有指定非线性程度的数据点，并执行一个精确化程序以确定精确化形态参数，一个实施方案包括一个精确化程序，该程序包括在形态库信号和形态参数的代价函数的一个功能区中寻找一个多面体，并用权重平均方法来把总代价函数最小化。其他实施方案包括用灵敏度分原，分簇方法，基于回归的方法，局域化精细分辨率方法，叠代率精确化方法，以及其他代价优化或精确化方法程序和方法的形态参数精确化程序。形态参数的精确化可以自动地启动或基于事先确定的标准，如象在测得信号和最佳符合形态库之间超过某一误差量度来启动。

主权项

1.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括：用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择该测得信号的最佳符合，该形态数据空间具有指定非线性程度的数据点，这些数据点代表形态参数和相关的信号，该形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的这样一个数据点，它具有的信号与测得信号最接近；以及用一种精确化程序，基于所选信号的形态参数，确定对应于测得信号的精确化形态参数；其中精确化程序包括一系列步骤，被设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据来确定精确化形态参数。