[发明专利]光刻术的方法,装置和计算机程序产品无效
| 申请号： | 03809147.X | 申请日： | 2003-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN1646993A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 伦纳特·奥尔森 | 申请（专利权）人： | 奥博杜卡特股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;//G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 一种在可以绕轴(5)转动的基本平坦基片(3)的表面层(4)中借助于预定曝光量的光刻射束(2)曝光制成材料槽(6)的方法，其特征是，在基片(3)绕轴转动期间，光刻射束(2)与轴(5)之间的相对位置受到控制，使部分槽(6)接受光刻射束(2)的多次曝光，槽(6)是由所述多次曝光之和制成。此外，描述光刻装置和计算机程序产品，计算机程序产品具有按照该方法控制这种装置的指令。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 装置 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】：
1.一种在可以绕轴(5)转动的基本平坦基片(3)的表面层(4)中借助于预定曝光量的光刻射束(2)曝光制成材料槽(6)的方法，其特征是，在基片(3)绕轴转动期间，光刻射束(2)与轴(5)之间的相对位置受到控制，使部分槽(6)接受光刻射束(2)的多次曝光，槽(6)是由所述多次曝光之和制成。
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