[发明专利]将基片传递给用于盘形基片的薄膜形成装置的方法 ,在该方法中使用的基片传递机构和基片托架 ,以及使用该方法的盘形记录媒体制造方法无效

专利信息
申请号: 03814362.3 申请日: 2003-06-16
公开(公告)号: CN1662977A 公开(公告)日: 2005-08-31
发明(设计)人: 越川政人;渡边英昭 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26;C23C14/04;C23C14/50
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 吴鹏;马江立
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种基片传递方法,利用该方法可将一没有中心孔的盘形基片或类似物保持在空气中以便容易地输送给一溅射装置。在一盘形基片的任何一侧的中心部分处设有一突起部,并且通过使该基片与一外掩膜、一内掩膜和一内掩膜固定磁体成为一个整体来进行基片的输送等操作,其中该外掩膜覆盖该基片的外周向端部和中心部分,该内掩膜和内掩膜固定磁体固定在该基片上同时在它们之间保持该基片的中心。一传递机构利用磁力保持该外掩膜,然后在要将基片传递于其上的基片托架一侧上同时利用磁力保持该外掩膜,在基片传递过程中该传递机构一侧的磁力减小。
搜索关键词: 将基片 传递 用于 盘形基片 薄膜 形成 装置 方法 使用 机构 托架 以及 记录 媒体 制造
【主权项】:
1.一种基片传递方法,该方法用于将一盘形基片连同一内掩膜和一外掩膜一起传递给一基片托架,该内掩膜具有磁性并适于覆盖该基片的中心表面部分,该外掩膜具有磁性并适于覆盖该基片的外周向表面部分,该方法包括:通过从一输送臂的一掩膜保持表面上的预定位置向该内掩膜和该外掩膜施加磁力而预先将该内掩膜和该外掩膜各自的表面固定和保持在该掩膜保持表面上,并将该基片放置在被保持在该掩膜保持表面上的该内掩膜和该外掩膜上;将一内掩膜固定磁体设置在该基片背面的基本中心部分处,并将该内掩膜和该内掩膜固定磁体固定在该基片上;使该基片托架与其上保持该内掩膜固定磁体、该内掩模、该外掩膜和该基片的该输送臂的掩膜保持表面相对;将该内掩膜固定磁体插入一设置在该基片托架的中心处的凹部中,并在几乎同时使设置在该基片托架内的磁体向该外掩膜施加磁力;减少该输送臂施加在该外掩膜上的磁力;以及通过利用从该基片托架施加的磁力将该外掩模的背面固定和保持在该基片托架上而将该基片传递给该基片托架。
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