[发明专利]高PTF溅镀靶和制造方法无效
| 申请号： | 03818079.0 | 申请日： | 2003-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN1671881A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | 张文军;贝恩德·孔克尔;阿南德·德奥杜特;迈克尔·巴托洛梅乌斯 | 申请（专利权）人： | 黑罗伊斯有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34;G11B5/84;G11B5/64 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明通过将至少两种不同类型的粉末混合在一起并用粉末冶金法固结粉末以形成坯料，从而形成用于沉积器械的靶。然后由坯料形成靶。靶包括具有第一PTF的第一材料相和具有高于第一PTF的第二PTF的第二材料相。第二PTF也高于具有和靶相同的化学组成的材料的PTF。 | ||
| 搜索关键词： | ptf 溅镀靶 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积器械的靶，包括：具有第一PTF的第一材料相；和具有第二PTF的第二材料相，该第二PTF高于该第一PTF。
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