[发明专利]制造系统,发光装置以及含有有机化合物层的制造方法有效
| 申请号： | 03820510.6 | 申请日： | 2003-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN1679375A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;村上雅一;桑原秀明 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/14;C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;张志醒 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于薄膜形成系统的气相淀积系统，其提高EL材料的利用效率、并在形成EL层的产量或均匀性上具有优越性，并且本发明还提供一种气相淀积方法。本发明的特征是，在气相淀积室内，提供有6个内封有蒸发材料的容器911的蒸发源支架903其对应于衬底以一定的间隔边移动边实施气相淀积。通过载送装置902b从安装室905载送蒸发源支架903。旋转底座907内藏加热器，在容器被载送到蒸发源支架903之前，通过对蒸发源支架903加热可提高产量。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 系统 发光 装置 以及 含有 有机化合物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造系统包括：装载室；与装载室连接的载运室；与载运室连接的多个淀积室；以及与每个淀积室连接的安装室，其中，所述每个淀积室和将每个淀积室内真空抽气的第一真空抽气室连接在一起；其中每个淀积室包括：给掩模和衬底的位置定位的定位装置；支承衬底的装置；以及移动蒸发源支架的移动装置，其中所述蒸发源支架包括至少一个其内密封有蒸发材料的容器；加热容器的装置；以及提供在容器上的闸门；其中，所述安装室和将安装室内真空抽气的第二真空抽气室连接在一起；以及其中安装室包括：加热容器的装置；以及载运容器到淀积室的蒸发源支架的载运装置。
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