[发明专利]用于监视和控制半导体生产过程的方法和装置有效
| 申请号： | 03821970.0 | 申请日： | 2003-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN1682165A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 梅里特·芬克;雷蒙德·比德森 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种包括图形用户接口(GUI)的高级过程控制(APC)系统用于监视和控制由半导体处理系统执行的半导体制造过程。该半导体处理系统包括多个处理工具、多个处理模块(室)和多个传感器，并且APC系统包括APC服务器、数据库、接口服务器、客户工作站和GUI组件。GUI是基于网络的并且用户能够通过网络浏览器进行查看。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监视 控制 半导体 生产过程 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在半导体处理环境中控制处理工具的高级过程控制(APC)系统，该APC系统包括：APC服务器，其提供多种APC相关应用；接口服务器(IS)，其与APC服务器耦连；数据库，其与IS和APC服务器耦连；和与APC服务器耦连的GUI组分，其中IS包括用于耦连处理工具的装置，用于耦连多个处理模块的装置，和用于耦连多个传感器的装置。
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