[发明专利]利用等离子体选择性地去除涂覆于形成在衬底上的负型光致抗蚀剂上的聚酰亚胺配向层并再利用衬底的方法无效
| 申请号： | 03825986.9 | 申请日： | 2003-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN1742226A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 李承虎;金明儫;郑钟必 | 申请（专利权）人： | ICD股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 葛强;方挺 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开的是一种利用等离子体设备选择性地去除涂覆在负型光致抗蚀剂(其涂覆于玻璃衬底上)上的聚酰亚胺有机配向层并且再利用所述玻璃衬底的方法，所述等离子体设备具有反应腔室，用来通过提供至电极的高频功率来产生等离子体，所述方法包括以下步骤：将涂覆有所述聚酰亚胺有机配向层的形成有所述负型光致抗蚀剂的玻璃衬底放入所述反应腔室中，并且将所述反应腔室的压力保持在100～900毫托；保持所述压力并且在所述反应腔室中通入混合气体O2/N2；以及为所述等离子体设备的所述电极提供1～20千瓦的功率以产生等离子体，从而选择性地分解所述聚酰亚胺有机配向层。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 等离子体 选择性 去除 形成 衬底 负型光致抗蚀剂上 聚酰亚胺 再利用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用等离子体设备选择性地去除在涂覆于玻璃衬底上的负型光致抗蚀剂上涂覆的聚酰亚胺有机配向层并且再利用所述玻璃衬底的方法，所述等离子体设备具有反应腔室，用来通过提供至电极的高频功率来产生等离子体，所述方法包括以下步骤：将涂覆有所述聚酰亚胺有机配向层的形成有所述负型光致抗蚀剂的玻璃衬底放入所述反应腔室中，并且将所述反应腔室的压力保持在100～900毫托；保持所述压力并且在所述反应腔室中通入混合气体O2/N2；以及为所述等离子体设备的所述电极提供1～20千瓦的功率以产生等离子体，从而选择性地分解所述聚酰亚胺有机配向层。
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