[其他]一种耐高温的温梯法晶体生长装置在审

专利信息
申请号: 101985000000534 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN85100534B 公开(公告)日: 1988-08-03
发明(设计)人: 周永宗 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国科学院上海专利事务所 代理人: 张泽纯
地址: 上海市8*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于温梯法生长晶体装置的改进,包括坩埚、发热体和保温屏蔽装置。提供了一种锥形底中心有一籽晶槽尾部和圆锥筒壁的较理想的坩埚,发热体为矩形波状的板条式圆筒,其上半部有孔,下端与电极板相联,发热体上半部的温差由不同孔数和孔径来产生,下半部的温差由电极板的热传导来提供,保温屏蔽装置设计合理。该晶体生长装置热场稳定,控制简易,用于Nd∶YAG晶体生长,已获得大尺寸优质的晶体。
搜索关键词: 一种 耐高温 温梯法 晶体生长 装置
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