[其他]钽铌器件熔盐电解法制膜及产品在审
申请号: | 101985000001505 | 申请日: | 1985-04-01 |
公开(公告)号: | CN85101505B | 公开(公告)日: | 1988-03-30 |
发明(设计)人: | 刘寓中 | 申请(专利权)人: | 华北光电技术研究所 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 北京市朝*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及在钽铌器件上熔盐电解制膜的工艺方法及产品。用熔融锂盐电化学反应在钽或铌或钽铌合金器件表面生成一层含有钽或铌的含氧化合物的薄膜(如钽酸锂或锂的铌酸盐等),可改进器件的许多性能,膜的击穿电压达1500伏以上,表面硬度最高可达Hv700左右。能提高器件表层的弹性,强度及改变其他物理、电学性能。可以改善钽或铌或钽铌合金器件的使用效果,扩大钽和铌的应用范围。用于钽喷丝板,减少堵孔提高纤维质量。还可应用于石油化工上的钽制器件,薄膜热探测器的衬底及制作抗磨弹性元件等。 | ||
搜索关键词: | 器件 电解 法制 产品 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华北光电技术研究所,未经华北光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/101985000001505/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类