[其他]光记录装置在审
| 申请号： | 101986000007205 | 申请日： | 1986-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN1004948B | 公开（公告）日： | 1989-08-02 |
| 发明（设计）人： | 坪井信义;渡部笃美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 确定光记录介质在被加热到第一温度以上之后受到冷却的第一状态的光点，和确定光记录介质在被加热到室温以上但不超过第一温度的第二温度之后受到冷却的第二状态的光点，即，两个光点照在光记录介质上，并处在其上的同一导轨中，其中通过控制每个光点的光点直径和／或它们的光强，在光记录介质上记录和消抹信号。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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