[其他]专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源在审
| 申请号： | 101988000000832 | 申请日： | 1988-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1005733B | 公开（公告）日： | 1989-11-08 |
| 发明（设计）人： | 王德苗;任高潮 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 浙江大学专利代理事务所 | 代理人： | 连寿金 |
| 地址： | 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源，其磷场由条状静止的外磁组件和能作往复运动的内磁组件产生，能对静止的大面积工件表面均匀地镀复阳光控制膜、低辐射膜、镜面膜及导电膜。适用于镀复大面积的工件，如大型建筑玻璃、汽车护栅、露天字牌、大型平面镜等。是一种靶树利用率高、耗能小、膜层均匀度高、投资少效益高的新型溅射源。 | ||
| 搜索关键词： | 专用 沉积 大面积 薄膜 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
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