[发明专利]光刻装置及确定束尺寸和发散度的方法

摘要

一种光刻装置，包括：辐射系统，用来提供投影辐射束；光栅，通过该光栅辐射束被定向；检测器，用来测量穿过光栅的辐射束强度；聚焦元件；和用来使辐射束定向通过光栅的装置。按本发明的光刻装置包含与使辐射束定向的装置耦连的处理装置，以通过相对运动或辐射束瞄准方向的变化来改变穿过光栅的辐射束的强度。该处理装置还与测量强度的检测器相连接，以通过测得的强度和相对运动计算束尺寸或束发散度。本发明的光栅提供一种简单而可靠的确定束质量特性如束尺寸和/或束发散度的方法。

主权项

1.一种光刻装置，包括：—辐射系统，用来提供投影辐射束；—支撑结构，用于支撑作图装置，所述作图装置用来按照所需的图形将投影束作出图形；—衬底台，用来保持衬底；—一个投影系统，用来将已作成一定图形的束投影至衬底的靶部分上；—光栅，通过该光栅辐射束被定向；—检测器，用来测量穿过所述光栅的辐射束强度；—改变辐射束位置的装置；所述光刻装置的特征在于，它还包含括与改变辐射束位置的装置耦连的处理器，以通过辐射束和光栅的相对运动来改变穿过光栅的辐射束强度，该处理器还与所述检测器耦连，以由所测量的强度和相对运动计算辐射束的束尺寸。