[发明专利]曝光设备无效
| 申请号： | 200310117002.0 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN1506762A | 公开（公告）日： | 2004-06-23 |
| 发明（设计）人： | 今井洋之 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 面向板(50)安装刻画有电路图案的膜掩模3，且压力膜1安装在膜掩模(3)之上。通过上移压印盘4，使膜掩模3与压力膜1接触并将其推靠在板(50)上。膜掩模(3)和压印盘(4)安装在减压室(2)中，减压室(2)的上表面是压力膜(1)。压力膜(1)是由树脂等制成的膜，具有传播曝光波长的特性。压力膜(1)环周连接减压室(2)的壁以构成减压室的一个壁，其中通过在减压室Y侧形成负压，使压力膜(1)呈由其中心至周边的隆起形状膨胀，将膜掩模(3)推靠在板(50)上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，具有用于支持曝光物体的压印盘和用于支承掩模的掩模支承装置，该掩模上刻画有要在曝光物体上曝光的曝光内容，其特征在于包括：减压室，至少装有所述掩模支承装置和压印盘，并用于形成比外界压力低的压力；压力膜，其构成所述减压室的壁的一个表面，并通过降低减压室的压力而使其向减压室内膨胀；以及使所述压印盘和压力膜相对移动的装置，所述装置推动由所述掩模支承装置支承的掩模和由所述压印盘支持的所述曝光物体而使它们靠在所述膨胀的压力膜上，由此使所述掩模和曝光物体形成完全接触。
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