[发明专利]蚀刻液无效
| 申请号： | 200310118884.2 | 申请日： | 2003-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN1506496A | 公开（公告）日： | 2004-06-23 |
| 发明（设计）人： | 栗山雅代;大串亮;秋山大作 | 申请（专利权）人： | 美格株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26;C23F1/28 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可将镍、铬或镍·铬合金迅速溶解，并可抑制铜腐蚀的蚀刻液。它是将1～50重量％的硫酸、0.1～20重量％的盐酸、0.01～20重量％的具有捕捉铜离子功能的铜腐蚀抑制成分与水配制成蚀刻液。上述铜腐蚀抑制成分可以是例如含有硫原子、且含有至少一种选自氨基、亚氨基、羧基、羰基及羟基中的取代基的碳原子数为7以下的化合物；噻唑；噻唑类化合物；苄烷铵以及烷基醇酰胺等。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，其特征在于，含有可溶解镍、铬或镍·铬合金的酸成分和具有捕捉铜离子功能的铜腐蚀抑制成分。
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