[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200310119538.6 申请日: 2003-11-28
公开(公告)号: CN1505138A 公开(公告)日: 2004-06-16
发明(设计)人: 根本义彦;谷田一真;高桥健司 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社;株式会社东芝;罗姆股份有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/522;H01L27/12;H01L21/28;H01L21/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明得到易制造的半导体器件。具备:互相相向配置的第1和第2半导体衬底1、2;在第1半导体衬底1的相向面上形成、由第1半导体电路3和第1电极7构成的第1半导体元件5;在第2半导体衬底2的相向面上形成、由第2半导体电路4和第2电极8构成的第2半导体元件6;夹在第1与第2电极7、8之间的布线层9;及贯通第1半导体衬底1,经布线层9与第1和第2电极7、8连接的贯通电极12,第2半导体衬底2在贯通电极12的侧面方向隔开配置,从第1半导体衬底1突出的贯通电极12的侧面和第2半导体元件6的侧面被绝缘材料13覆盖,贯通电极12的一端从第1半导体衬底1背面露出,另一端位于与第2半导体衬底2背面相同的高度,并从绝缘材料13露出。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种半导体器件,其特征在于:具备:具有互相相向配置的相向面的第1和第2半导体衬底;在上述第1半导体衬底的相向面上形成的、由第1半导体电路和第1电极构成的第1半导体元件;在上述第2半导体衬底的相向面上形成的、由第2半导体电路和第2电极构成的第2半导体元件;夹在上述第1与第2电极之间的、由导电材料构成的第1布线层;以及贯通上述第1半导体衬底,同时经上述第1布线层与上述第1和第2电极连接的贯通电极,上述第2半导体衬底安装在上述第1半导体衬底上,在上述贯通电极的侧面方向隔开地配置,从上述第1半导体衬底突出的上述贯通电极的侧面和上述第2半导体元件的侧面被绝缘材料覆盖,上述贯通电极的一端从上述第1半导体衬底的背面露出作为第1外部端子,上述贯通电极的另一端位于与上述第2半导体衬底的背面相同的高度,并且从上述绝缘材料中露出作为第2外部端子。
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