[实用新型]一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源无效

专利信息
申请号: 200320108962.6 申请日: 2003-10-16
公开(公告)号: CN2668649Y 公开(公告)日: 2005-01-05
发明(设计)人: 徐良衡;徐英明;陈绍 申请(专利权)人: 上海复旦天臣新技术有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 罗大忱
地址: 200437上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型设计了一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源,包括料斗和加热片。其特征在于,所说的料斗为V字形斜槽,所说的加热片设置在V字形斜槽的底部。本实用新型改变了传统舟型蒸发源,盛放蒸发物料的料斗为V字形斜槽,物料的蒸发只依靠料斗底部的加热片。本实用新型提供的新型蒸发源克服了传统舟型蒸发源的缺陷,大幅度的提高了物料蒸发的稳定性,从而提高了镀膜的均匀性和质量。同时改善了对物料蒸发的可控制性,使镀膜过程更加易于控制和调节。这种新型的蒸发源适用于各种类型和尺寸的真空蒸发镀膜系统。
搜索关键词: 一种 用于 蒸发 真空镀膜 设备
【主权项】:
1.一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源,包括料斗(1)、底部支座(2)、加热电极(3)和加热片(4),其特征在于,所说的料斗(1)为包括两个独立斜边(6)的V字形斜槽,独立斜边(6)通过支架(10)固定在底部支座(2)上,加热片(4)嵌在V字形斜槽的底部,加热片(4)与加热电极(3)相连接,热电极(3)固定在底部支座(2)上。
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