[发明专利]制造由层列构成的台阶式构型的方法有效
申请号: | 200380101700.X | 申请日: | 2003-10-17 |
公开(公告)号: | CN1706041A | 公开(公告)日: | 2005-12-07 |
发明(设计)人: | 杰罗姆·阿萨尔;西蒙·艾歇尔;埃里希·南塞 | 申请(专利权)人: | ABB瑞士有限公司 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 朱登河;王学强 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 一种构成由层列(2)组成的台阶式构型的方法,包括把部分第一层列部分(21)去掉而形成第一剩余层列部分(211)的第一构成步骤,使用第二蚀刻剂进行蚀刻而把第一层列部分(21)之下的第二层列部分(22)部分地去掉的第二构成步骤,以及使用第三蚀刻剂进行蚀刻而把第二层列部分(22)之下的第三层列部分(23)部分地去掉的第三构成步骤,本发明在第二构成步骤中去掉第一剩余层列部分(211)之下的第二层列部分(22)的区域,并在第三构成步骤中去掉所述第一剩余层列部分(211)的第一突出部(A)。 | ||
搜索关键词: | 制造 构成 台阶 构型 方法 | ||
【主权项】:
1.一种构成由层列(2)组成的台阶式构型的方法,其中(a)在第一构成步骤中把部分第一层列部分(21)去掉而形成第一剩余层列部分(211),(b)在第二构成步骤中使用第二蚀刻剂进行蚀刻而将第一层列部分(21)之下的第二层列部分(22)部分地去掉,(c)在第三构成步骤中使用第三蚀刻剂进行蚀刻而将第二层列部分(22)之下的第三层列部分(23)部分地去掉,其特征在于,(d)在第二构成步骤中去掉部分第一剩余层列部分(211)之下的第二层列(部分22)的区域,而形成第一剩余层列部分(211)的第一突出部(A),(e)在第三构成步骤中去掉所述第一剩余层列部分(211)的第一突出部(A)。
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